راکتور بستر سیال برای تولید سیلیکون خالص

"زمینه ی فنی

0002. افشاییه ی پیش رو مربوط به شیوه های تولید سیلیکون الکترونیکی خالص می باشد.بویژه در ارتباط با شیوه های تولید دانه های سیلیکونی خالص توسط CVD (رسوب سازی با بخار) از گازهای سیلیکونی بر روی ذرات اولیه و بواسطه ی تجزیه در راکتور بستر سیال می باشد. "

 برای دریافت اصل مقاله انگلیسی اینجا را کلیک کنید.

ترجمه این فایل 16 صفحه است که 4 صفحه ی نخست آن تصاویر و جداول می باشد.